洁净室又可称作无尘室(Cleanroom),通常用作工业生产或科学研究的一部分,包括制造药品,集成电路,CRT,LCD,OLED和microLED显示器等。洁净室的设计是为了保持ji低水平的微粒,如灰尘,空气中的生物体,或汽化的微粒。确切地说,洁净室有一个受控的污染水平,该水平由在的颗粒尺寸下每立方米的颗粒数来规定。洁净室也可指任何给定的容纳空间,在该空间中设置了减少微粒污染和控制其他环境参数,如温度,湿度和压力。
在药学意义上,洁净室是指符合GMP无菌规范(即EU和PIC/S GMP指南附件1以及当地卫生当局要求的其他标准和指南)中定义的GMP规范要求的房间,是将普通房间转换为洁净室所需的工程设计、制造、完成和操作控制(控制策略)的组合。
很多行业会使用无尘室,只要是小颗粒会对生产过程产生不利影响的地方都会有洁净室的身影。它们的尺寸和复杂度各不相同,广泛应用于半导体制造,制药,生物技术,和生命科学等行业,以及航空航天,光学,和能源部中常见的关键工艺制造。
洁净室通过使用HEPA或ULPA过滤器,采用层流(单向流)或湍流(乱流,非单向流)气流原理,来控制空气中的颗粒。层流或单向气流系统将过滤的空气以恒定的流向下或水平方向引导到位于洁净室地板附近墙壁上的过滤器,或通过凸起的穿孔地板板进行再循环。
电子制造业万级无尘车间的洁净度等级要求高,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控,另外该类洁净室对静电要求严格。其中对湿度的要求尤甚。因为过于干燥的厂房内易产生静电,造成CMOS集成损坏。一般来说,电子厂房的温度应控制在22℃左右,相对湿度控制在50-60%之间,这时可有效地消除静电,并使人也感觉舒适。芯片生产车间、集成电路无尘室和磁盘制造车间都是属于电子制造行业洁净室的重要组成部分,由于电子产品在制造、生产过程中对室内空气环境和品质的要求严格,主要以控制微粒和浮尘为主要对象,同时还对其环境的温湿度、新鲜空气量、噪声等作出了严格的规定。今天就随康德莱净化工程公司一起来了解下吧! 电子制造业万级无尘车间的洁净度等级要求高,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控,另外该类洁净室对静电要求严格。其中对湿度的要求尤甚。因为过于干燥的厂房内易产生静电,造成CMOS集成损坏。
1、万级芯片无尘车间参数要求换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次;100≥500次; 2、压差:主车间对相邻房间≥5Pa; 3、平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s; 4、温度:冬季>16℃;夏季<26℃;波动±2℃; 5、湿度:45-65%;GMP车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。 6、噪声:≤65dB(A); 7、照度:300LX; 8、新风补充量是总送风量的10%-30%。 万级净化主要靠洁净的气流不断稀释室内的空气,将室内的污染逐渐排出,来实现洁净效果。室内的气流是以不均匀的速度呈不平行流动,伴有回流或涡流,不同等级的净化车间,主要是依靠单位时间内所送风量的不同来实现。
废气处理设备,主要是运用不同工艺技术,通过回收或去除减少排放尾气的有害成分,达到保护环境、净化空气的一种环保设备。
处理原理:
稀释扩散法
净化工程原理:将有臭味地气体通过烟囱排至大气,或用无臭空气稀释,降低恶臭物质浓度以减少臭味。适用范围:适用于处理中、低浓度的有组织排放的恶臭气体。优点:费用低、设备简单。缺点:易受气象条件限制,恶臭物质依然存在。
1、水吸收法
净化工程原理:利用臭气中某些物质易溶于水的特性,使臭气成分直接与水接触,从而溶解于水达到脱臭目的。适用范围:水溶性、有组织排放源的恶臭气体。优点:工艺简单,管理方便,设备运转费用低 产生二次污染,需对洗涤液进行处理。缺点:净化效率低,应与其他技术联合使用,对硫醇,脂肪酸等处理效果差。
2、曝气式活性污泥脱臭法
净化工程原理:将恶臭物质以曝气形式分散到含活性污泥的混和液中,通过悬浮生长的微生物降解恶臭物质 适用范围广。适用范围:截至2013年,日本已用于粪便处理场、污水处理厂的臭气处理。优点:活性污泥经过驯化后,对不超过极限负荷量的恶臭成分,去除率可达99.5%以上。缺点:受到曝气强度的限制,该法的应用还有一定局限。
3、多介质催化氧化工艺
净化工程原理:反应塔内装填的固态填料,填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层,与通过喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触,并在多介质催化剂的催化作用下,恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围:适用范围广,尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气,对疏水性污染物质有很好的去除率。优点:占地小,投资低,运行成本低;管理方便,即开即用。缺点:耐冲击负荷,不易污染物浓度及温度变化影响,需消耗一定量的药剂。